发布网友 发布时间:2024-10-23 22:36
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热心网友 时间:2024-11-17 13:00
世界集成电路的发展历程是一部科技革命的历史。1947年,贝尔实验室的肖特莱等人发明了晶体管,开启了微电子技术的先河。1950年,结型晶体管的诞生和R Ohl和肖特莱的离子注入工艺,推动了技术的进步。1951年,场效应晶体管的发明,进一步丰富了这一领域。1956年,C S Fuller的扩散工艺为集成电路的发展奠定了基础。1958年,仙童公司和德仪公司的奠基人罗伯特·诺伊斯和威廉·肖克利几乎同时发明了集成电路,标志着微电子学历史的正式开启。
1960年,H H Loor和E Castellani的光刻工艺带来了新的突破。1962年,RCA公司研制出MOS场效应晶体管。1963年,CMOS技术由F.M.Wanlass和C.T.Sah首次提出,如今,超过95%的集成电路采用这一技术。1964年,摩尔定律由Intel的戈登·摩尔提出,预示着晶体管集成度每18个月翻一番。1966年,RCA公司成功研制出CMOS集成电路和门阵列,这是集成电路技术的一个重要里程碑。
我国集成电路产业的发展历程同样值得回顾。六十年代初期,我国开始发展,以计算机和军工需求为核心,开发逻辑电路,奠定了基础。1978年至1990年,引进美国二手设备,提升装备水平,尤其在彩电集成电路的国产化方面取得显著成果。1990年以后,以908工程和909工程为引领,CAD技术成为突破口,科技攻关和北方科研基地建设并举,集成电路行业为信息产业贡献力量,实现了新的飞跃。