专利名称：一种高纯二氧化氯溶液制备装置专利类型：实用新型专利
发明人：许学强,隋立平,吴海丽,郭杰申请号：CN202020775165.7申请日：20200512公开号：CN212189109U公开日：20201222
摘要：本实用新型提供一种高纯二氧化氯溶液制备装置，涉及溶液制备技术领域，包括底板，所述底板的顶部固定连接有反应箱、水箱和存液箱，水箱的顶部固定连接有注射筒，注射筒的内部设有活塞板，注射筒的底部固定连接有吸水管。该高纯二氧化氯溶液制备装置，通过在单向阀的作用下，防止水箱内部的液体和反应箱内部的气体回流，通过在密封圈的作用下使反应箱内部的形成密闭空间，当排水管再次注水时通过排气管将生成的二氧化氯气体排入到存液箱的内部形成二氧化氯溶液进行储存，该装置结构简单，有效的防止二氧化氯气体扩散到空气中，通过启动搅拌电机驱动搅拌叶进行转动，加速水与药品进行混合反应，从而提高了二氧化氯溶液制备的效率。
申请人：山东高密高源化工有限公司
地址：261500 山东省潍坊市高密市祥和街(西)2066号
国籍：CN
代理机构：北京天盾知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容